ALD・CVD用前駆体材料

ALD / CVD Precursors & Technical Services

高純度前駆体の供給から、成膜技術サポート、ソース容器のメンテナンスまで。

CHEMFISHは、半導体・電子デバイスの薄膜形成に用いられるALD（原子層堆積法）およびCVD（化学気相成長法）用前駆体材料を提供しています。

提携メーカーおよび技術チームとの連携により、研究開発向けの少量サンプルから量産用途まで、お客様の成膜プロセスや要求仕様に応じた材料選定・供給をサポートします。

01｜100種類以上の前駆体に対応

100種類以上の前駆体について、開発・製造に対応可能です。グラムスケールからキログラムスケールまで、研究評価や生産計画に合わせた供給をご相談いただけます。

主な取扱製品
TDMAH、TDMASn、TDMAT、TMA、TiCl₄、TDMAZ、TEMAH、TEMAZ など

主要製品は在庫を確保しており、在庫品では容器の洗浄・充填から出荷まで、最短7日での対応が可能です。

※対象製品、数量、容器仕様および品質確認の条件によって納期は異なります。国際輸送に要する期間は別途となります。

02｜薄膜形成の技術サポート

数十年にわたる実務経験を有する提携成膜エンジニアチームが、材料選定や成膜評価をサポートします。

金属、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、シリサイドなど、幅広い薄膜材料に対応し、ご希望の膜種やプロセス条件に応じた成膜試験をご相談いただけます。

03｜ソース容器の洗浄・漏れ検査・充填

前駆体の供給に加え、ソース容器の洗浄、漏れ検査、充填サービスを提供します。

また、研究開発用ソース容器の液面モニタリングについてもご相談いただけます。前駆体の特性や装置との適合性を確認し、適切な容器仕様と運用方法をご提案します。

お問い合わせ

製品名またはCAS番号、ご希望数量、純度・不純物管理項目、容器仕様、希望納期をお知らせください。ご要望に応じた製品および供給条件をご案内します。

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E-mail：sales@chemfish.co.jp